CDE 晶圆量测工具:ResMap

Creative Design Engineering, Inc.(CDE)是一家总部位于美国加州 Cupertino 的公司,成立于 1993 年,由 David Cheng 博士创立。David Cheng 博士曾在 Bell Labs、Xerox PARC 与 Applied Materials 任职,在半导体设备领域积累了长期技术经验。CDE 的产品定位于高性能、低成本的晶圆量测工具,服务半导体及相关行业。CDE...

CDE 晶圆量测工具:ResMap
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CDE 晶圆量测工具:ResMap

发布于:2026-09-07 点击:1007次

Creative Design Engineering, Inc.(CDE)是一家总部位于美国加州 Cupertino 的公司,成立于 1993 年,由 David Cheng 博士创立。David Cheng 博士曾在 Bell Labs、Xerox PARC 与 Applied Materials 任职,在半导体设备领域积累了长期技术经验。CDE 的产品定位于高性能、低成本的晶圆量测工具,服务半导体及相关行业。CDE 的网站显示,其产品已在全球范围内安装数百台,并由区域销售与支持伙伴提供维护服务。区域支持伙伴覆盖美国东北与西部、美国西北部、美国德州、中国、德国、欧洲其余地区、韩国与新加坡。

CDE 晶圆量测工具:ResMap

  • 法定全称:Creative Design Engineering, Inc.

  • 简称:CDE

  • 总部:Cupertino, California, USA

  • 成立年份:1993

  • 创始人:David Cheng 博士

  • 主要产品:ResMap 晶圆电阻率 / 薄膜量测系统

  • 关键历史节点:1993 年推出 300 mm 能力设备,2012 年推出 450 mm 能力设备

产品目录

CDE 的产品目录以 ResMap 系列晶圆量测系统为主。按上片方式与设备形态可分为 Manual Load、Auto Load Table Top、Auto Load Floor Standing 与 EFEM 四大类。

Manual Load

Manual Load 产品线由 ResMap 178 与 ResMap 273 组成。ResMap 178 为 Table Top、Manual 上片,适用 2” 到 8” 晶圆,机身尺寸 12” x 19” x 10”,量程 1 mΩ/□ 到 10 MΩ/□,精度 0.5%,静态重复性 0.02%。ResMap 273 同为 Table Top、Manual 上片,但适用 2” 到 300 mm 晶圆,机身尺寸 15” x 18” x 10”,其余量测参数与 178 一致。两个型号均未配置 Mini Environment、Probe Changer 与 Aligner,主要面向研发与实验室。

Auto Load Table Top

Auto Load Table Top 产品线由 ResMap 168 与 168 Solar 组成。ResMap 168 为 Table Top、open cassette 自动上片,适用 4” 到 8” 晶圆,机身尺寸 12” x 28” x 10%。168 Solar 在 168 的基础上兼容 152 mm x 152 mm 太阳能晶砖。该系列在桌面型尺寸内提供自动送片能力,适合中小批量生产。

Auto Load Floor Standing

Auto Load Floor Standing 产品线包括 ResMap 463 FOUP、463 OC 与 468 SMIF。ResMap 463 FOUP 为 Floor Standing、FOUP LoadPort 上片,适用 300 mm、8” 与 300 mm open cassette(配适配器),机身尺寸 22” x 45” x 53”,配置 Mini Environment、1 / 2 / 4 探针切换与 Aligner。ResMap 463 OC 为 Table Top、open cassette 上片,适用 300 mm,同样支持 1 / 2 / 4 探针与 Aligner。ResMap 468 SMIF 为 floor standing、SMIF 上片,适用 8”,机身尺寸 22” x 45” x 53”,配备 Mini Environment 与多探针切换。三个型号的量程、精度与重复性均与桌面型保持一致。

EFEM

EFEM 产品线包括 ResMap 4E3 与 ResMap EFEM。ResMap 4E3 为 EFEM attached 型,支持 EFEM 自动上片与 Manual 上片,适用 300 mm,机身尺寸 17” x 17” x 20%。ResMap EFEM 为独立 EFEM 型,FOUP 上片,适用 300 mm,机身尺寸 40” x 63” x 56”。两者均配置 Mini Environment、多探针切换与 Aligner,面向 300 mm 高自动化产线。

参数一览

型号

类型

晶圆尺寸

量程

精度

静态重复性

上片方式

ResMap 178

Table Top

2”–8”

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

Manual

ResMap 273

Table Top

2”–300 mm

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

Manual

ResMap 168

Table Top

4”–8”

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

open cassette

ResMap 463 FOUP

Floor Standing

300 mm、8” 与 300 mm open cassette

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

FOUP LoadPort

ResMap 463 OC

Table Top

300 mm

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

open cassette

ResMap 468 SMIF

Floor Standing

8”

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

SMIF

ResMap 4E3

EFEM attached

300 mm

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

EFEM + Manual

ResMap EFEM

EFEM

300 mm

1 mΩ/□–10 MΩ/□

0.5%

0.02%

FOUP

上述参数表显示,CDE 的量测引擎在不同设备形态上保持一致,差异集中在晶圆尺寸、上片方式与环境控制。用户可以根据产线标准与产能需求,在 Manual Load、Auto Load 与 EFEM 之间选择对应型号。

适用行业

半导体晶圆制造是 ResMap 的主要应用场景,覆盖 2” 到 300 mm 硅片电阻率均匀性监控。ResMap 178 与 273 常用于研发与小批量验证,463 FOUP 与 EFEM 型则面向 300 mm 量产线。

光伏 / 太阳能行业使用 ResMap 178 Solar 与 168 Solar 进行太阳能晶砖方块电阻量测,两者均兼容 152 mm x 152 mm 方片。化合物半导体行业使用 GaAs、GaN、SiC 材料,常用 ResMap 178 或 273 做研发和小批量表征。研发与实验室偏好 Manual Load 机型,便于小批量、多品种快速换片。面板 / 显示材料行业利用 Solar 版本的大尺寸方形样品兼容能力。高密度封装 / 扇出型封装 / 300 mm 产线则使用 463 FOUP、4E3 与 EFEM 进行 FOUP 与 EFEM 集成量测。

公司定位

CDE 的产品策略集中于晶圆电阻率量测这一单一领域,通过桌面型、落地型与 EFEM 型三种设备形态覆盖从研发到量产的完整需求。所有型号共享同一量测引擎与软件平台,降低了用户在不同阶段迁移设备时的数据对标成本。

产品布局思路

CDE 的产品布局以单一量测技术为核心,通过设备形态差异覆盖不同应用场景。桌面型产品(178、273、168)面向研发、中小批量和教学环境,落地型产品(463、468)面向高自动化产线,EFEM 型产品(4E3、EFEM)面向与产线设备前端模块深度集成的场景。三个层级之间共享同一量测引擎和软件平台,使得研发阶段的测量配方可以直接迁移到量产设备,减少了工艺验证的重复工作。

CDE 通过区域销售与支持伙伴网络维护全球客户,覆盖北美、欧洲和亚洲主要半导体制造区域。

上海智鸢机电设备有限公司作为 CDE 的 Distributor,所供 CDE 产品均来自 CDE 原厂原装进口、经正式报关入境。


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